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Jenoptik推出新型激光器

放大字體  縮小字體 發布日期:2014-10-10     來源:[標簽:出處]     作者:[標簽:作者]     瀏覽次數:166
核心提示:
系列產品之一,其基于薄片激光器技術,確保出眾的參數穩定性并為飛秒激光器產品設立新的行業標準。

  該激光器可發射出高達40μJ的高脈沖能量,并且在輸出功率高達4W的情況下,其運行的頻率范圍為30-200kHz。光束質量M2 ≤1.25且脈沖間隔≤400fs,有助于實現工業激光器應用創新,例如光伏領域。值得注意的是在加工由多種材料組成的多層系統時的選擇性單層膜移除功能。實際的工業應用是移除晶硅太陽能電池中的絕緣層。

  飛秒激光器為用戶提供非破壞性薄層移除的優勢,因為沒有激光熱量被轉移到晶硅太陽能電池上。

  對于工業用途,激光器的工作溫度范圍被擴展至15-35°C。為了確保工業適用性,每個激光器都要經過嚴格的類型檢查,在此過程中,將驗證典型運輸、儲存和操作條件下的安全功能。其中還包括氣候和沖擊試驗、抗外界電干擾性以及關于電輻射透射的電磁兼容性(EMC)標準的合規性。需要額外關注的是,客戶能夠將完整的激光器輕松地整合入復雜的機器和系統中。例如,可以通過軟件或硬件控制每個驅動信號。

  Jenoptik公司的JenLas D2.fs 是一款對醫療應用領域同樣具有優化性能的飛秒激光器。該激光器的設計融合了高脈沖頻率(高達200kHz)操作與卓越的光束特性,它能夠在器官組織中生成顯微構造,同時不引起任何相關的熱量輸入。

  薄片激光器技術為性能需求的靈活性提供了堅實基礎。

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